当社グループの経営方針、経営環境及び対処すべき課題等は、以下のとおりであります。
なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において当社グループが判断したものであります。
(1)経営方針
我が国の光産業は、光技術の絶え間ない革新により、情報通信、ディスプレイ・照明、情報記録、情報入出力、レーザ・光加工、光エネルギー、センシング・計測等さまざまな産業分野に光技術の応用が広がり、出荷額ベースで約13兆円規模(一般財団法人光産業技術振興協会「光産業全出荷額、国内生産額調査結果について」2025年3月14日より)の一大産業に成長しております。ビッグデータ、半導体等の微細化、情報通信の大容量高速化など近年のイノベーションの進展は、電気から光の時代への移行を加速しております。光技術の絶え間ない革新に支えられ、今後も引き続き、大きく発展していくと見られる中で当社グループは、世の中に無い、また敢えて他社ができないものに取り組み、グローバルニッチ分野での製品化/事業化に成功してまいりました。3つの経営理念、
「研究成果を社会に還元し、キーマテリアルを世界に向けて発信する」
「顧客へマテリアルソリューションを提供し、社会の発展に貢献する」
「単結晶を核とした製品を開発し、未来の市場機会を創造し続ける」
のもとに、光産業におけるオープンイノベーションパートナーとして、技術シーズと市場ニーズをマッチングさせ、新たな付加価値を創造するコーディネーターを担ってまいります。同時に、「世の中に無い、また敢えて他社ができないものに取り組む」ベンチャー精神を発揮し、世界でもユニークな光学技術で世界のイノベーションの拡大に貢献する企業をめざしてまいります。
(2)経営戦略等
当社グループは、上記の経営方針の下、光学分野の次世代製品開発、レーザ加工、レーザセンシングといった新領域の新製品開発とともに、コア技術である単結晶の高品質化開発といった基盤技術の研究開発を推進してまいります。こうした取り組みの例として、世界規模のテーマであるカーボンニュートラル実現への貢献が挙げられます。具体的にはデジタルインフラの省エネ化・高性能化のキーマテリアルであるパワー半導体向けのSiCウエハの超高品質化、大口径化の開発並びに家電パワーデバイス用途の低コストβ-Ga2O3基板の開発に注力してまいります。これらの開発については、取締役会、経営会議等により議論され、随時進捗確認を行っております。
また、中長期的な経営の指針として、「光学技術の蓄積」、「光学分野における技術者集団の形成」、「市場における新たな需要の発掘」、「事業譲受のノウハウの集積」を図り、各市場において高付加価値製品の開発を実現し、それにより高いシェアを獲得することで収益性を高め、企業価値の増大を達成してまいります。
(3)経営上の目標達成状況を判断するための客観的な指標等
当社グループは、①営業利益率、②EBITDAマージン※を経営指標とし、それぞれ①10%、②20%を目指しております。
営業利益率の向上を目指す施策としては、より付加価値の高い製品の開発を進めてまいります。具体的には、研究開発活動を行っております、パワー半導体向材料、量子分野、シンチレータ向け単結晶、レーザの新規用途製品となります。
EBITDAマージンの向上を目指す施策としては、営業利益の向上に加え、設備投資の効率化、生産効率の改善及び業務の効率化を図ってまいります。
※EBITDAマージン=(営業利益+減価償却費+のれん償却費)÷売上高
(4)経営環境
電気の20世紀から光の21世紀と言われる社会変革は、光通信技術による情報革命が主導してまいりました。1980年代の光ファイバ、インターネットの一般家庭への導入、データセンタの活用によるクラウドサービスの拡大、スマートフォンの普及、さらに5Gの導入と技術の進展はとどまるところを知りません。ただ、これでもまだ光の機能の一部を利用したにすぎません。具体的には、製造現場でのレーザ加工、医療分野での眼科やがんの診断及び治療、ディスプレイ、精密計測、農業利用などへの展開に向けた開発が進展しております。こうした光学分野の環境をもとに、それぞれの事業毎の経営環境は「第1 企業の概況 3 事業の内容」にも一部記載しておりますが、半導体事業及びヘルスケア事業の事業環境について以下に記載いたします。
世界の半導体産業は、元々先端技術の動向に影響を受けやすく、比較的変動の大きい市場と言われておりましたが、NoT(Network of Things)等にけん引される需要拡大により食品、電力、輸送に迫る重要な産業となっております。2022年には前年比で3.3%の成長を遂げましたが、2023年は世界的なインフレやそれに伴う利上げ、地政学的リスクの増大などの影響で個人投資や企業の設備投資が減少し、特にメモリ市場を中心に市場全体が9.4%縮小しました。しかし、生成AIの急速な普及によるロジックデバイスの需要増加や、メモリやマイクロデバイスの需要回復により、2023年後半には市場が回復傾向にあります。2024年には、生成AIやパワーディスクリートの需要が持続し、市場は前年比で13.1%の再拡大が見込まれております。(世界半導体市場統計2023年11月28日公表)。当社グループの半導体事業は、半導体ウエハの欠陥検査装置向けの単結晶とレーザで構成されておりますが、そうした市場全体の動向や世界的な半導体不足解消に向けた半導体メーカーの旺盛な設備投資意欲を背景に増勢で推移しております。
ヘルスケア市場は、新型コロナウイルス感染症拡大により2020年の一時的な需要減少後、従来の堅調な需要が回復しましたが、中国経済の減速や米中摩擦の昂進から、2024年はやや軟調と見られております。当社グループのヘルスケア事業は、これまではがんの診断装置(PET、Positron Emission Tomography)に搭載されるシンチレータ単結晶が主体でしたが、頭部PET検査装置用シンチレータ単結晶の売上実績も出てきており、両方を合わせた市場全体の成長が期待されております。
(5)事業上及び財務上の対処すべき課題
① 各種研究開発の促進
当社グループが推進する光技術の応用範囲は、世界規模で拡大しており、NoT(Network of Things)やAI、ビッグデータといったイノベーションを支える半導体の微細化、医療機器の高度化等に伴い、当社グループの製品への需要も拡大基調にあります。一方、パワー半導体向けの超高品質、大口径のSiC単結晶開発や、レーザによる加工やセンシングといった新領域・新用途への的確かつスピーディーな開発、製品化が求められてもおります。こうした展開には各種研究開発の推進が不可欠であり、また当社グループの独自性、技術的な優位性を保つ上でも同様であります。研究開発の推進には、社内の人的及び資金的資源に加え、大学、研究機関との研究連携や、政府機関の研究開発補助等の資金面での支援も積極的に活用しております。
② 優秀な人材の採用・育成
これらの当社グループ製品への需要増や開発促進に対応するため、当社グループでは即戦力の技術者の採用とともに優秀な若手技術者の採用や人材開発が大きな経営課題になっていると認識しております。新卒採用については、国内の大学や研究室、高等専門学校との継続的な連携を進めることや、学生の履修状況に応じた製品製造・開発の実体験型インターンシップ等の実施により卒業生の採用に繋げ、採用難の状況の中でも計画に沿った実績を重ねております。当社における過去3年の新卒採用の実績は、2023年4月22名、2024年4月25名、2025年4月8名となっております。中でも、事業継承、研究開発の進展、研究の深掘を担う人材を確保するため、毎年、博士課程修了の社員の採用実績があります。中途採用については、優秀な人材について年々採用のハードルが高まる中、人材紹介会社を通じて当社グループの魅力やマーケットでの製品優位性を効果的にアピールし、業務拡大に対応できる即戦力の確保に成果を上げております。当社における過去3年の正社員の中途採用実績は、2023年2月期41名、2024年2月期24名、2025年2月期13名となっており、即戦力が期待される社員が充足されつつあります。専門性の高いスキルや知識が求められるポジションで人材を確保でき、更なる組織全体の活性が期待されます。
③ 財務体質の健全化
当社グループは、当社グループ製品の需要増に対応するためには、既存設備の増強と継続的な研究開発が必要と考えております。一方で、これら設備投資又は研究開発投資を支える財務基盤の確保も重要な課題の一つと認識しております。具体的には、自己資本比率等の指標及び各種キャッシュ・フローの水準により財務体質の健全性を確認しながら、各投資のタイミングと投資額について検討しております。
④ 資材調達体制の強化
当社グループは、様々な原材料や光学部品等を購入して使用しております。その中には特殊な原材料や部品も含まれており、重要なものは複数ベンダーによる購買や在庫積み増し等の対策を講じて安定製造、安定供給に努めておりますが、一部代替が利かないものも存在します。特に、ヘルスケア事業においてシンチレータ単結晶の製造に使用する酸化ルテチウムの産出国は中国、オーストラリア等であり、当社グループは中国から調達しております。複数ベンダーによる購買、商社等を通じた調達市場動向の早期把握、また在庫積み増し等の対策を講じて安定製造、安定供給に努めております。また、半導体事業の主要製品であるレーザの一部部材については、当社グループが求める品質の部材を製造できる企業は国内外でもわずかであるため、仕入先との綿密な調整等連携強化を図るとともに、調達仕様の見直しや仕入状況の定期的なモニタリングにより、サプライチェーンの安定的な確保に向けた取り組みを推進してまいります。
当社グループのサステナビリティに関する考え方及び取組みは次のとおりです。
なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において当社が判断したものであります。
当社グループは、経営理念に基づき、持続可能な社会の実現と企業価値の向上を目的として、サステナビリティ方針を定めております。
<サステナビリティ方針>
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1.当社は、「世の中にない、また敢えて他社ができないものに取り組む」ベンチャー精神をもとに社会課題を解決する技術・製品を開発し、人々や地球環境に貢献していきます。 2.当社は、当社の技術が社会に与える効果や影響を正しく認識し、高い品質と安全性を兼ね備えた製品を世に送り出します。 3.当社は、新しい付加価値を迅速かつ効率的に創り出すため、オープン・イノベーションを推進します。 4.当社及び当社役職員は、「良き企業市民」として地域社会と連携して持続可能な社会の実現に向けた課題の解決に取り組みます。 5.当社は、すべての役職員が持てる能力を最大限発揮できるよう、働き方の改革や職場環境の改善を進めるとともに、教育の機会を提供していきます。 |
(1)サステナビリティについての取組み
① ガバナンス
<サステナビリティ推進体制>
当社は、社会の持続的発展と自社の持続的成長との両立を目指し、環境(Environment)・社会(Social)・ガバナンス(Governance)における課題解決に向けた活動を推進することを目的として、サステナビリティ委員会を設置しております。
サステナビリティ委員会では、主に次のような取組みを行っております。
・サステナビリティ経営における基本方針や戦略の策定、施策の立案
・サステナビリティ方針に沿った重要課題(マテリアリティ)の特定
・サステナビリティ関連の事業リスク及び機会のモニタリング、指示
・各KPI目標の設定、進捗の報告及び管理
なお、当社は、取締役会において、サステナビリティ方針及び重要課題を決定しております。また、サステナビリティ委員会は、社内の各会議体と連携しており、全社の活動状況を取締役会に対して報告しております。
<サステナビリティ推進体制図>
② リスク管理
当社は、各取締役、監査役、内部監査担当が緊密に連携し、内部統制システムを活用して、当社及び子会社における事業活動継続に関わる様々なリスクを含む経営並びにコンプライアンス等に関するリスク情報を収集し、評価及び対策を検討しております。さらに、取締役会及びその他の重要な会議においては、業務執行上のさまざまなリスクについても討議しております。
当社が認識する事業等のリスクに関する詳細は、「
(2)気候変動への対応
① 戦略
環境については、以下の目標を掲げ、事業活動によるCO2排出量を削減し、当社製品の利用による社会のCO2排出量も削減することで、地球環境負荷の低減に貢献します。
・エネルギー損失を低減し、社会のCO2排出量削減に貢献する次世代パワー半導体材料や、スマートグリッドに使用されるセンサー向け単結晶の研究・開発を推進します。
・事業拡大に伴うCO2排出量増加が見込まれる一方で、生産効率向上、省エネ設備の導入等により事業活動によるCO2排出量を抑制します。
② 指標及び目標
当社では、事業拡大に伴いCO2排出量の増加が見込まれる中、業容拡大に比例したCO2排出量の増加を抑えるべく、生産効率向上や省エネ設備の導入等により、2031年2月期のCO2排出量を2022年2月期比+159%(売上高原単位排出量-50%以下)に抑制することを目標としております。(Scope1+Scope2)
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2025年2月期 実績 |
2031年2月期 目標 |
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CO2排出量(売上高原単位排出量) 2022年2月期比 |
+33% (-9%) |
+159% (-50%以下) |
(3)人的資本経営における考え方及び取組
① 戦略
当社の戦略人事は、社員を「人的資本」として捉え、その価値を最大限に引き出すことを目指しています。社員一人ひとりが自分の成長を実感し、会社の成長、業績向上に貢献できる仕組みとして、人事制度「OGS」(OXIDE Growth Support for all employees)を刷新し、持続的な企業成長を実現することを目的としています。
<人事制度の考え方>
当社は「中長期的に人材を育成・雇用し続ける」「職種を横断するような異動が必要」「職務内容が流動的」といった特性を持った組織と考えるため、職能型、ジョブ型を兼ね備えた「スキルベース型」の考え方を導入します。タスクを元に、スキルと人と連携させることで、成長による能力の向上が見込まれ、社員の長期的なモチベーションの維持を図ります。
<成長支援制度の導入>
社員の成長を会社の成長と直結させるため、社員が自分の成長目標を明確にし、上司や同僚からの支援を受けながら成長を実現できる環境を整えています。
当制度を通じて、会社の期待成果、重要業務、必要な知識・技術、行動特性(コンピテンシー)を明確化し、上司は評価者ではなく、成長支援者として社員の成長をサポートする役割を担います。
<社員のスキルアップとキャリア形成の支援>
当社の人材開発において、新入社員研修や社員対象にe-ラーニングを実施しています。また、教育制度の強化として、以下のポイントを重視して行います。
・個別化された教育プログラム
個々の成長目標やスキルギャップに応じた教育プログラムを提供します。
・社内での教え合い文化の促進
社員同士が互いに教え合い、成長を促進する環境を整えます。
・教育効果の測定とフィードバック
教育プログラムの効果を測定し、その結果を基にプログラムを改善します。また、社員に対して教育の成果や今後の課題についてフィードバックを行い、成長を支援します。
・サクセッションプラン
企業経営の安定と継続のため、将来の経営を担う幹部人材の見極めと育成計画を検討しております。
<タレントマネジメントシステムの導入>
在籍する人材のデータを、より確実に可視化し、人材活用、エンゲージメント向上に活かします。
研究、開発を支えるコア人材、専門職において、人材配置の最適化、人材育成の効率化、人事評価の効率化と公平化を期待しています。
<福利厚生カフェテリアプラン>
当社では、従業員とその家族の豊かな暮らしの実現や、能力開発など、社員の満足度、エンゲージメントを高めるために下記のプランを提供しています。
a.資産形成支援として、従業員持株会、企業型確定拠出年金、株式報酬制度を導入しております。
b.能力開発、スキルアップ支援として、博士課程就学支援制度、TOEIC受験推奨制度、英会話学習支援制度を導入しております。
c.福利厚生プランとして、会員制リゾートホテルの優先利用サービス、地域共済サービスを提供しております。
② 指標及び目標
当社では、「女性活躍推進法」「次世代育成支援対策推進法」に基づき一般事業主行動計画を策定し、労働局に届出をしております。なお、同行動計画において掲げている指標及び目標は、次のとおりです。
<女性活躍推進法>
すべての社員がその能力を十分に発揮し、長く勤められる働きやすい職場環境を整備してまいります。
目標1:年次有給休暇取得率を2027年2月期に72.5%とする
目標2:男女とも平均勤続年数を3年増やす
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提出会社 |
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事業年度 |
2024年2月期 |
2025年2月期 |
目標 ( |
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69.3% |
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4.2 |
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(注)1.年次有給休暇取得率は「女性活躍推進法」に基づき、対象者は、毎事業年度末(2月末日)在籍者(当年の途中入社者を含む)としております。計算式は期中の有給休暇取得全日数(前年から繰越された日数の取得を含む)/期中において対象者全員へ付与された有給休暇全日数としております。
2.「女性活躍推進法」に基づき算出したものであります。
<次世代育成支援対策推進法>
社員全員が働きやすい雇用環境を作ることで、次世代の子どもたちが健やかに育ち、社会貢献できる世代へと育成します。
目標1:育児休業を取得しやすい、復帰しやすい環境の整備
目標2:インターンシップ等の積極的な実施による若年者募集、採用の機会確保
行動計画においては、
本書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりであります。
当社グループは、これらリスク要因を認識した上で、その発生自体の回避、あるいは発生した場合の対応に努める方針でありますが、これらはすべてのリスクを網羅したものではなく、予見しがたいリスク要因も存在するため、投資判断については、本項以外の記載内容もあわせて、慎重に検討した上で行われる必要があると考えております。
なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において当社グループが判断したものであります。
(1)市場リスク
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1.顧客動向によるリスク |
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リスクの内容 |
当社グループの顧客層は、半導体、医療機器、量子など世界各地のメーカーに拡がっております。さまざまな産業セクターへの営業活動を行い、これら顧客企業の個別の経営状態の変動による影響を極小化する努力をしております。しかしながら大幅な為替変動、各国の関税政策、地政学的要因などにより、それらの産業全体が業績に悪影響を被る場合があります。当社グループが提供する製品需要は、常に次世代製品の先行開発投資に追随する性格のものであり、顧客企業での次世代投資、製品転換が遅れることで当社グループの財政状態及び業績に悪影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
高 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
特に重要/同水準 |
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対応策 |
当社グループは、半導体、医療機器、量子など、幅広い産業セクターへ製品を提供することを強みとしていることから、国内外における経済動向の変化に対して特定の産業に依存しない事業ポートフォリオを更に強化することにより、リスク分散に努めてまいります。 |
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2.特定の取引先への依存リスク |
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リスクの内容 |
当社グループの2025年2月期の販売先は、300社超ありますが、そのうち、特定の6取引先に対する売上が、約65%となっております。 このため、これらの取引先において事業方針・外注政策に関する変化や業績悪化等が発生し当社グループとの取引額が減少した場合に、当社グループの財政状態及び業績に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
高 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
特に重要/同水準 |
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対応策 |
当社グループは事業計画の達成及び将来成長に向けて、顧客ポートフォリオの整理と重点顧客の明確化を継続して行っております。当連結会計年度においては、2025年2月期の売上高に占める特定6取引先の割合は、前年度に対し2ポイント減少いたしました。特定6取引先への売上高を拡大しつつ、継続的に新たな用途の市場創造、市場参入及び新規顧客開拓を実施することによりその他の重点顧客の売上高をさらに拡大し、特定の取引先への依存リスクを低減させながら全体の売上高を拡大していくことを目指しております。 |
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3.海外事業展開に関するリスク |
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リスクの内容 |
材料・部品の調達及び当社グループ製品の輸出等において海外との商取引を行っております。当連結会計年度における売上高のうち、80%超が海外売上高によるものであり、国別では中国向けの売上が最も大きく、次いで米国が主要な販売先となっております。主要取引先の所在国において、予測し得ない税制や法規制など変更、政治・経済情勢の不安定化、テロ・紛争などの勃発、あるいは自然災害などによるリスクが顕在化した場合、当社グループの事業活動及び業績に影響を及ぼす可能性があります。特に、米中における関税政策、輸出管理規制により、中国からの材料の調達、中国への製品出荷、米国への製品出荷に影響を及ぼす可能性があります。同時に、米国から製品購入が難しくなる中国顧客や、中国から製品購入が難しくなる米国顧客から当社グループに対する引き合いも増加傾向にあります。 また、当社の連結子会社であるRaicol Crystals Ltd.はイスラエル中部のロッシュ・ハーアインに本社及び製造工場を有しております。イスラエルにおいては、2023年10月7日の武力衝突の発生以降、政治的・経済的に不安定な状況が継続しておりますが、現時点でRaicol社における従業員の安否や製造設備への被害等重大な影響は報告されておりません。しかしながら、イスラエルとパレスチナにおける紛争長期化の影響が懸念され、今後Raicol社の製造計画の遅延や当社の経営戦略に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
高 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
特に重要/同水準 |
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対応策 |
定期的に事業の状況をモニタリングし、国際情勢、海外経済情勢の変化等によるリスクを踏まえたうえで事業戦略の見直しを定期的に実施するとともに、経営会議や取締役会等において販売対象地域や、事業拠点の状況把握に努めており、情勢の変化に適切に対応しております。 <ウクライナ情勢について> 当社グループはロシア・ウクライナに拠点を有しておらず、また同地域向けの事業も手掛けておりません。当社グループの主要顧客においても同地域関連事業が大きな比重を占めている状況にはないものと認識しております。従いまして、現時点でウクライナ情勢が当社グループの事業及び業績に大きな影響を及ぼす可能性は低いと判断しております。 |
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4.開発進捗遅延によるリスク |
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リスクの内容 |
当社グループの開発投資は、自社での投資や顧客の支援による投資などさまざまな形態がありますが、顧客の開発スケジュールや生産計画又は当社グループ製品の代替技術の台頭などにより、当社グループの開発進捗が大幅に遅延あるいは変更となる場合には、当社グループの財政状態及び業績に悪影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
中 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
経営会議や取締役会等において、開発投資案件の進捗状況の適時把握や市場動向の早期把握に努めており、仮に財政状態や業績に悪影響を及ぼす予兆を検知した場合には、遅滞なく経営判断を行う体制を構築しております。 |
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5.新領域事業に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、事業規模の拡大と収益源の多様化を実現するため、また、光学分野での新たなマーケットを開拓するために、新領域事業への取り組みを進めていく方針であります。新領域事業が安定して収益を生み出すまでには一定の期間と投資を要することが予想され、全体の利益率を低下させる可能性があります。また、将来の事業環境の変化等により、新領域事業が当初の計画どおりに推移せず、新領域事業への投資に対する十分な回収を行うことができなかった場合、当社グループの事業に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
中 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
新領域事業展開に関しましては、リスクを最小化すべくスモールスタートでのトライアルを前提とし、既存事業との関連性、収益性等を中心に十分に検討を行ったうえで実施しております。また公的な開発助成制度の活用により投資負担の軽減を図ってまいります。 |
(2)調達リスク
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1.資材調達によるリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、さまざまな原材料や光学部品等を購入して使用しておりますが、その中には特殊な原材料や部品も含まれております。重要なものは複数ベンダーによる購買や在庫積み増し等の対策を講じて安定製造、安定供給に努めておりますが、一部代替が利かないものも存在します。特に、ヘルスケア事業でシンチレータ単結晶の製造に使用する酸化ルテチウムの産出国は中国、オーストラリア等であり、当社グループは中国から調達しております。従って、中国の国家政策等により、その調達に問題が発生した場合には、生産計画に支障が生じ、当社グループの財政状態及び業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 また、半導体事業の主要製品であるレーザの一部部材については当社グループが求める品質の部材を製造できる企業は国内外でもわずかであるため、当該部材の確保ができなくなった場合には機会損失が発生する可能性があります。また、品質水準を満たす部材を確保できない場合には、歩留率の悪化を招く恐れがあり、これに伴う原材料費の上昇を販売価格へ転嫁できない場合は、当社グループの業績に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
高 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
特に重要/同水準 |
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対応策 |
複数ベンダーによる購買、商社等を通じた調達市場動向の早期把握、また在庫積み増し等の対策を講じて安定製造、安定供給に努めております。 仕入先が限定される主要部材については、仕入先との綿密な調整など連携強化を図るとともに、調達仕様の見直しや仕入状況の定期的なモニタリングにより、サプライチェーンの安定的な確保に向けた取り組みを推進してまいります。 |
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2.原材料価格の変動によるリスク |
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リスクの内容 |
当社グループが製造で使用する原材料の中で、ヘルスケア事業にてシンチレータ単結晶の製造に使用する酸化ルテチウムは、レアアースであります。レアアースの価格は変動が大きく、価格の変動を販売価格に転嫁できない場合には、当社グループの財政状態及び業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 |
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発生可能性 |
高 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
特に重要/同水準 |
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対応策 |
経営会議や取締役会等においてレアアースの価格動向の把握に努めており、仮に価格変動の予兆を検知した場合には、原材料の前倒し仕入れ等の経営判断を遅滞なく行う体制を構築しております。また原材料価格の上昇を販売価格に転嫁する仕組みの構築も合わせて進めております。 |
(3)法務(コンプライアンス含む)、知的財産に関するリスク
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1.知的財産管理に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、他社製品と差別化できる高度な技術及びノウハウを保持しており、またこれらの保護について最善の努力を傾注しておりますが、特定の地域では知的財産権による完全な保護が困難であるおそれがあり、そのため第三者が当社グループの知的財産を使用して類似した製品を製造することを防止できない可能性があります。一方、当社グループが使用する技術及びノウハウ等が意図せずして他社の知的財産権に抵触する疑いが生じ係争に発展する可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
知的財産権が事業活動・製品競争力に重要な役割を果たしていることを認識し、知的財産権の取得による自社権利の保護に努める一方で、第三者の知的財産を侵害することがないよう外部専門家の意見を参考にしつつ開発プロセスの初期段階から厳格に他社の知的財産権を調査し、問題の発生防止を図っております。 |
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2.情報漏洩リスク |
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リスクの内容 |
当社グループの事業の中には、秘密保持契約を締結した上で顧客の製品開発に関わる技術情報や営業情報を預かり、取り扱う業務があるため、当該機密情報の外部漏洩がないよう役職員と秘密保持契約を締結しております。役職員が利用する端末には、データの暗号化、アクセス制限/ログの取得監視、各種システムに対するID管理システム(多要素認証含む)を導入することで、在宅も含めたデータの保全に努めております。 しかしながら、これらの施策にもかかわらず、何らかの理由により機密情報の漏洩が発生した場合には、当社グループへの損害賠償責任の追及や社会的信用の喪失等により、経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
当社グループでは機密情報の漏洩リスクに対応すべく、上記施策のほか機密情報の取扱いに関する教育を継続的に実施しております。また、軽微な事象が発生した場合についてもコンプライアンス委員会等を通じて周知徹底し、再発の防止に努めております。 |
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3.コンプライアンスリスク |
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リスクの内容 |
当社グループの事業拡大に伴い役職員数は年々増加していることから、不正行為が発生しないよう、コンプライアンス関連規程を制定するとともに、当社グループの役職員等が遵守すべき法令・ルールについてコンプライアンス研修等を継続的に実施し、コンプライアンス意識の醸成を図っております。 しかしながら、法令等に抵触する事態や不正行為が発生するといった事態が生じた場合や、事業の急速な拡大により内部管理体制の構築が追いつかないという事態が生じる場合には、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
上記施策のほか、内部通報制度であるホットラインの設置等を行い、法令遵守違反・役職員等による不正行為、不祥事等を早期に発見することに努め、迅速な対応を図っております。 |
(4)財務リスク
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1.固定資産の減損に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、キャッシュ・フローを生み出す資産又は資産グループの最小単位として、工場単位、事業単位等(第1・2・6工場及び半導体事業(横浜事業所、第4工場)、第3工場、Raicol社、オキサイドパワークリスタル社を基本とした資産のグルーピングを行っております。 当該資産又は資産グループが属する工場の経営環境の著しい変化や収益状況の悪化等により、固定資産の減損損失を計上する必要が生じた場合には、当社グループの財政状態及び業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
事業計画や予実管理を通して、業績推移のモニタリングを行っており、早期に減損の兆候の把握に努めており、現時点で減損の兆候は識別しておりません。引き続き事業計画の着実な実行により収益の安定的確保に努めてまいります。 |
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2.有利子負債に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、将来にわたって必要な設備を新規取得あるいは更新のため、設備投資資金や運転資金を金融機関からの借入金により賄っており、当連結会計年度末における有利子負債は総資産の57.0%となっております。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
中 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
のれん等の減損により、金融機関からの借入金の一部において財務コベナンツに抵触しておりますが、当該金融機関と長期借入金については当初契約通りの返済で合意しており、短期借入金については返済期限を迎えた借入金の同額返済に応じていただいております。引き続き従来同様のスタンスで取引に応じていただけるように、金融機関と良好な関係を維持してまいります。 金利上昇によるリスクを軽減するため、変動金利による調達については固定金利等への切り替え、新規での長期借入は固定金利での契約を優先させております。また現預金を確保しつつ営業キャッシュ・フローによる借入金の返済促進などによる財務体質の強化に努めております。 |
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3.為替の変動に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、一部の海外との取引において日本円以外の通貨を用いて行っております。当該通貨の急激な為替変動があった場合には、当社グループの事業に影響を及ぼす可能性があります。また、連結子会社であるRaicol Crystals Ltd.は、現地通貨新シェケルで決算を行っており、当該通貨の急激な為替変動があった場合には、当社グループの財政状態及び業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 ※当社グループにおける海外との取引の場合、円安は利益を増加させる傾向にありますが、不安定な為替相場が事業に及ぼす影響という点でリスク水準は低減していないため、前期比同水準と判断しております。 |
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対応策 |
当社グループにおける海外との取引の場合は、主要な取引先とは円建てで取引を行っております。また、経営会議や取締役会等において、為替動向の把握に努めており、仮に財政状態や業績に悪影響を及ぼす予兆を検知した場合には、遅滞なく経営判断を行う体制を構築しております。また、連結子会社であるRaicol Crystals Ltd.については、リスクヘッジ方針に沿って適切な管理を継続し、リスクの低減を図ってまいります。 |
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4.修繕引当金に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、ヘルスケア事業で結晶育成のために坩堝を使用しておりますが、坩堝は使用を重ねることで摩耗や変形が生じ定期的な改鋳を要します。そのため、坩堝の改鋳に備えて、当該改鋳見込額のうち当連結会計年度末に負担すべき額を修繕引当金として計上しております。この点、改鋳が必要となる頻度や精製費等に変動が生じ、改鋳費用の実績が見積りと乖離した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
中 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
過年度の改鋳時における坩堝の摩耗・変形の程度を分析し、坩堝の肉薄化や形状の改良を進めることで改鋳頻度の長期化に努めております。また、坩堝の肉薄化や形状の改良を進めることで改鋳頻度を長期化することに加え、改鋳時に必要となる増し地金を余剰地金から充当することで市場価格の影響を低減し、見積改鋳費用の安定化に努めております。 |
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5.製品保証引当金に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループは、販売済製品の無償修理に対する費用支出に備えるために製品保証引当金を計上しております。この点、予期せぬ不具合の発生により交換修理費用の実績が見積りと乖離した場合には、当社グループの財政状態及び経営成績に影響を及ぼす可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
中 |
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リスク評価/前期比 |
重要/‐ |
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対応策 |
当社グループは、品質管理に重点を置き、顧客のニーズに沿った高品質な製品の製造に努めております。また、製品の瑕疵責任が極力発生しないよう、顧客とのコミュニケーションを密に行うとともに、無償修理が発生した場合であっても状況に応じた部品の先行手配、部材調達先のマルチベンダー化や内製化等の体制整備を進めております。 併せて修理案件ごとの実態を把握し、見積修繕費用の適正な計上に努めております。 |
(5)その他のリスク
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1.人材確保に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社グループの事業継続及び拡大においては、光学関連技術者、管理体制強化に伴う管理部門、当社グループ製品、技術を広く提供するための営業部門への有能な人材確保が必要であり、有能な技術者及び次世代経営幹部の採用を進めております。また、組織活性化と優秀な人材の定着を図っております。 しかしながら、計画どおりの採用が実現できず、技術者の確保が十分にできない場合には、人材確保に関する経費の増加や、適切な人材配置が困難となり事業拡大に制約が発生するなどにより、当社グループの財政状態及び業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
高水準のスキルを有した従業員を安定的に確保するため、採用担当者を中心とした人事部門の体制強化、転職顕在層に留まらない、転職潜在層に対するアプローチの強化等の取り組みを行っております。 |
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2.自然災害・事故災害の影響に関するリスク |
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リスクの内容 |
当社の生産拠点の内、本社、第1~第6工場、株式会社オキサイドパワークリスタルは山梨県北杜市に集中しております。突発的に発生する自然災害や火災・爆発等の不慮の事故が発生した場合には、生産活動の停止に伴う売上の大幅な減少や設備の修復等に多額の費用負担が生じ、当社グループの財政状態及び業績に悪影響が及ぶ可能性があります。また、大規模かつ長時間の停電発生や何らかの外的要因による情報ネットワークの遮断などによる事業活動の中断及び停止により、当社グループの財政状態及び業績に悪影響が及ぶ可能性があります。 |
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発生可能性 |
中 |
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影響度 |
大 |
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リスク評価/前期比 |
重要/同水準 |
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対応策 |
災害により生じる損害を最小限に抑えるため、製造設備に対し定期的な防災点検及び設備保守、安全のための設備投資等を行うとともに、レーザ生産拠点の複数化に努めております。また、事業の継続・早期復旧を実現するため、初動対応事項や関係部門の役割分担、緊急時の連絡体制等の整備を行い、基幹システムについては情報ネットワークの遮断に備えてバックアップ体制を構築しております。自然災害等に関しては、火災保険等の保険付保も行っております。 |
(1)経営成績等の状況の概要
当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下、「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。
① 財政状態及び経営成績の状況
a.財政状態
(資産)
当連結会計年度末における総資産につきましては、前連結会計年度末に比べ1,045百万円減少し、18,206百万円となりました。これは主に、のれんが1,641百万円、顧客関連資産が1,140百万円減少した一方、建設仮勘定が866百万円増加したこと等によるものであります。
(負債)
当連結会計年度末における負債につきましては、前連結会計年度末に比べ1,151百万円増加し、12,793百万円となりました。これは主に、短期借入金が1,400百万円増加した一方、長期借入金が427百万円減少したこと等によるものであります。
(純資産)
当連結会計年度末における純資産につきましては、前連結会計年度末に比べ2,197百万円減少し、5,412百万円となりました。これは主に、利益剰余金が2,703百万円減少したこと等によるものであります。
b.経営成績
当連結会計年度における世界経済は、欧米諸国における金融政策の引き締めによりインフレが抑制され、緩やかな回復基調が見られましたが、ウクライナや中東における紛争長期化に伴う地政学リスクの高まりや、中国経済の停滞、米国トランプ政権の通商政策等から先行きへの不透明感が高まっております。一方、日本経済は、エネルギー価格の上昇や急激な為替変動の影響を受けつつも、インバウンド需要の回復や企業の設備投資の持ち直しを背景に、緩やかな回復傾向を示しました。
当社グループの当連結会計年度は、中東における紛争長期化の影響を受け、連結子会社であるRaicol社の業績が低調に推移しました。一方で、半導体事業が順調に回復し、連結ベースの営業及び経常損益での黒字転換を牽引しました。ただし、同ベースの最終損益は、第3四半期に特別損失に計上したのれんの減損損失のため、当期純損失となりました。なお、キャッシュ創出力が回復した結果、当社グループのKPIであるEBITDAマージンは、前期比14.8ポイント増の13.6%となりました。また、営業利益率は、前期比16.4ポイント増の1.5%となりました。当社グループは、光学事業の単一セグメントであるため、セグメント別の記載は省略しておりますが、以下に製品の市場別に売上高の状況等を説明いたします。
新領域事業におきましては、Raicol社が減収となったものの、当社単体ではデータセンター向け新規案件獲得等により増収となりました。当連結会計年度における同事業の売上高は、前期比31.5%増の2,464百万円となりました。
半導体事業におきましては、調達部材の不具合に関する問題はセカンドベンダー製に切り替えることで完全に解決しました。生産効率が大幅に改善したことによる既存製品の出荷増と新製品の研究開発受託が寄与し、当連結会計年度における同事業の売上高は、前期比49.8%増の4,703百万円となりました。同事業の年間売上高としては過去最高を記録しました。
ヘルスケア事業におきましては、既存顧客の需要が減少し、また、新規顧客との取引において、納入仕様確定に時間を要したことから、当初計画していた売上が翌期以降にずれ込み、前期比減収となりました。当連結会計年度における同事業の売上高は、前期比23.0%減の1,226百万円となりました。
その結果、当連結会計年度の業績は、売上高8,394百万円(前年同期比27.1%増)、営業利益126百万円(前年同期は983百万円の損失)、経常利益230百万円(前年同期は766百万円の損失)、親会社株主に帰属する当期純損失2,703百万円(前年同期は422百万円の損失)となりました。
② キャッシュ・フローの状況
当連結会計年度末における現金及び現金同等物(以下、「資金」という。)は、前連結会計年度末に比べ613百万円増加し、2,239百万円となりました。
当連結会計年度における各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は以下のとおりであります。
(営業活動によるキャッシュ・フロー)
営業活動の結果、得られた資金は885百万円(前年同期は953百万円の支出)となりました。これは主に、税金等調整前当期純損失2,833百万円、減損損失2,723百万円、減価償却費816百万円、売上債権の増加額397百万円、為替差益205百万円等によるものであります。
(投資活動によるキャッシュ・フロー)
投資活動の結果、使用した資金は1,544百万円(前年同期は6,142百万円の支出)となりました。これは主に、有形固定資産の取得による支出1,660百万円が生じた一方で、有形固定資産の売却による収入146百万円が生じたこと等によるものであります。
(財務活動によるキャッシュ・フロー)
財務活動の結果、得られた資金は1,277百万円(前年同期は7,300百万円の収入)となりました。これは主に、短期借入金の純増額1,400百万円、長期借入れによる収入620百万円が生じた一方で、長期借入金の返済による支出918百万円が生じたこと等によるものであります。
③ 生産、受注及び販売の実績
a.生産実績
当社グループは、光学事業の単一セグメントであります。当連結会計年度における生産実績を事業区分別に記載すると以下のとおりです。
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事業区分 |
当連結会計年度(千円) (自 2024年3月1日 至 2025年2月28日) |
前年同期比(%) |
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新領域事業 |
1,540,244 |
135.3 |
|
半導体事業 |
2,765,668 |
113.1 |
|
ヘルスケア事業 |
1,297,114 |
135.9 |
|
合計 |
5,603,027 |
123.5 |
(注)金額は製造原価によっております。
b.受注実績
当社グループは、光学事業の単一セグメントであります。当連結会計年度における受注実績を事業区分別に記載すると以下のとおりです。
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事業区分 |
当連結会計年度 (自 2024年3月1日 至 2025年2月28日) |
|||
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受注高 (千円) |
前年同期比 (%) |
受注残高 (千円) |
前年同期比 (%) |
|
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新領域事業 |
2,322,381 |
131.2 |
962,255 |
89.6 |
|
半導体事業 |
5,451,440 |
219.3 |
3,211,646 |
130.3 |
|
ヘルスケア事業 |
1,204,942 |
81.8 |
2,000 |
8.7 |
|
合計 |
8,978,764 |
156.7 |
4,175,902 |
117.3 |
c.販売実績
当社グループは、光学事業の単一セグメントであります。当連結会計年度における販売実績を事業区分別に記載すると以下のとおりです。
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事業区分 |
当連結会計年度(千円) (自 2024年3月1日 至 2025年2月28日) |
前年同期比(%) |
|
新領域事業 |
2,464,904 |
131.5 |
|
半導体事業 |
4,703,914 |
149.8 |
|
ヘルスケア事業 |
1,226,031 |
77.0 |
|
合計 |
8,394,851 |
127.1 |
(注)最近2連結会計年度の主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は次のとおりであります。
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相手先 |
前連結会計年度 (自 2023年3月1日 至 2024年2月29日) |
当連結会計年度 (自 2024年3月1日 至 2025年2月28日) |
||
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販売高 (千円) |
割合 (%) |
販売高 (千円) |
割合 (%) |
|
|
Skyverse Technology Co., Ltd. |
1,260,351 |
19.1 |
2,856,524 |
34.0 |
|
Marubeni America Corporation |
1,529,081 |
23.1 |
1,038,719 |
12.4 |
|
株式会社日立ハイテク |
740,643 |
11.2 |
637,533 |
7.6 |
(2)経営者の視点による経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容
経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。
なお、文中の将来に関する事項は、本書提出日現在において判断したものであります。
① 経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容
当社グループは、光学事業の単一セグメントでありますが、事業区分別に売上高を以下に記載いたします。
a.売上高
当連結会計年度において、新領域事業では、データセンター向け新規案件獲得が寄与し、2,464百万円(前年同期比31.5%増)となりました。半導体事業では、既存製品の生産効率改善と新製品の研究開発受託が寄与し、4,703百万円(前年同期比49.8%増)となりました。ヘルスケア事業では、既存顧客の需要が減少し、1,226百万円(前年同期比23.0%減)となりました。全社では8,394百万円(前年同期比27.1%増)となりました。
b.売上総利益
当連結会計年度では半導体事業、新領域事業での増収が、変動コストや設備投資等による減価償却費の増加を吸収し、また、前年に発生した半導体事業での不具合部材の追加コストが大幅に減少したため、前期比大幅に増加しました。売上総利益は3,260百万円(前年同期比1,376百万円増)となりました。
c.販売費及び一般管理費、営業利益
当連結会計年度における販売費及び一般管理費は3,134百万円(前年同期比266百万円増)となりました。主な要因は、研究開発費が246百万円増加したこと等によるものです。その結果、営業利益は126百万円(前年同期は983百万円の損失)となりました。
d.経常利益
当連結会計年度における営業外収益は、303百万円となりました。その主な内訳は、為替差益208百万円です。営業外費用は、199百万円となりました。その主な内訳は、支払利息147百万円及び支払手数料36百万円です。
これらの結果、当連結会計年度における経常利益は230百万円(前年同期は766百万円の損失)となりました。
e.特別利益及び特別損失
当連結会計年度における特別損失は3,092百万円となりました。これは主にRaicol Crystals Ltd.の株式取得により生じたのれん等の減損損失計上等によるものです。
f.税金等調整前当期純損失
当連結会計年度における税金等調整前当期純損失は2,833百万円(前年同期は482百万円の損失)となりました。
g.法人税等
当連結会計年度における法人税、住民税及び事業税と法人税等調整額は△130百万円(△は利益)(前年同期は△60百万円)となりました。
h.親会社株主に帰属する当期純損失
当連結会計年度における親会社株主に帰属する当期純損失は2,703百万円(前年同期は422百万円の損失)となりました。
② キャッシュ・フローの状況
当連結会計年度のキャッシュ・フローの分析につきましては、「(1)経営成績等の状況の概要 ② キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。
③ 重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定
当社グループの連結財務諸表は、我が国において一般に公正妥当と認められる会計基準に基づいて作成されております。この連結財務諸表を作成するにあたって用いた会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定のうち、重要なものについては「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1)連結財務諸表 注記事項 重要な会計上の見積り」に記載のとおりであります。
④ 資本の財源及び資金の流動性
当社グループの資金需要のうち主なものは、製造用の設備の取得費、研究開発費、原材料等の購入費用、一般管理費等の営業費用であります。
当社グループは、事業運営上必要な流動性と資金の源泉を安定的に確保することを基本方針としております。
日々の営業活動及び製品製造のための仕入れに係る資金の受け取りと支払いの差により発生する短期運転資金は自己資金及び金融機関からの短期借入で賄い、自己資本では賄えない固定資産投資等への対応資金である長期運転資金の調達につきましては、金融機関引き受けの私募社債の発行、また金融機関からの長期借入やリースを中心に、また必要に応じて資本での調達も検討することとしております。
なお、当連結会計年度末における社債、借入金及びリース債務を含む有利子負債の残高は10,371百万円となっております。また、当連結会計年度末における現金及び現金同等物の残高は2,239百万円となっております。
⑤ 経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等
当社グループは、「第2 事業の状況 1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題 (3)経営上の目標達成状況を判断するための客観的な指標等」に記載のとおり、①営業利益率、②EBITDAマージンを経営指標とし、それぞれ①10%、②20%を目指しております。
営業利益率の向上を目指す施策としては、より付加価値の高い製品の開発を進めてまいります。具体的には、研究開発活動を行っております、パワー半導体材料、量子分野、シンチレータ向け単結晶、レーザの新規用途製品等となります。
EBITDAマージンの向上を目指す施策としては、営業利益の向上に加え、設備投資の効率化、生産効率の改善及び業務の効率化を図ってまいります。
(会社分割による連結子会社への事業承継)
当社は、2024年10月25日開催の取締役会において、当社のパワー半導体向け材料および関連製品の研究開発・製造販売等に関する事業を2024年10月18日に設立した連結子会社「株式会社オキサイドパワークリスタル」に会社分割により移管する決議を行い、同年10月25日に、株式会社オキサイドパワークリスタルと吸収分割に関する契約を締結しました。
会社分割の概要は次のとおりであります。
(1)会社分割の目的
当社は、次世代パワー半導体材料として溶液法SiCウエハなどの事業化に取り組んでおります。
次世代パワー半導体の基板は、現在海外メーカーがシェアの大部分を有しており、日本メーカーの空白地帯です。このため、経済産業省を中心に国を挙げて支援を進めており、当社は空白地帯の次世代パワー半導体基板分野への参入を目指しております。当社が事業化に取り組む溶液法は、従来の昇華法に比べ、原理的に欠陥が少なく高品質な単結晶育成が可能です。
当該事業の子会社化は、機動的な経営判断を可能にし、他社との連携による製造バリューチェーン構築の早期化に貢献します。また、当該事業に係る資金調達の選択肢を拡大させます。
このように、事業環境の変化に対応しつつ、当該事業化を更に加速させる目的で新設した当社100%出資の連結子会社「株式会社オキサイドパワークリスタル」に、パワー半導体向け材料及び関連製品の研究開発・製造販売等に関する事業を本会社分割により承継いたします。
(2)会社分割の方法
当社を分割会社とし、株式会社オキサイドパワークリスタルを承継会社とする簡易吸収分割
(3)分割期日
2024年12月1日
(4)会社分割に係る割当の内容
株式会社オキサイドパワークリスタルは、本会社分割に際して普通株式80,000株を発行し、当社に対して当該普通株式全てを割当て交付します。
(5)分割する部門の事業内容
パワー半導体向け材料および関連製品の研究開発・製造販売等に関する事業
(6)分割する部門の経営成績
パワー半導体向け材料および関連製品の研究開発・製造販売等に関する事業について、決議日時点における売上高はございません。よって開示を省略しております。
(7)分割する資産、負債の項目及び金額
(単位:百万円)
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資産 |
負債 |
||
|
項目 |
帳簿価額 |
項目 |
帳簿価額 |
|
流動資産 |
276 |
流動負債 |
253 |
|
固定資産 |
798 |
固定負債 |
0 |
|
合計 |
1,074 |
合計 |
253 |
※分割する資産及び負債の金額は、2024年12月1日現在の貸借対照表に基づき算出したものであります。
(8)株式会社オキサイドパワークリスタルの概要
代 表 者 取締役社長 古川 保典
住 所 山梨県北杜市武川町牧原1741番地8
資 本 金 10百万円(2025年2月28日現在)
事業内容 パワー半導体向け材料および関連製品の研究開発・製造販売等に関する事業
当連結会計年度の研究開発活動は、基盤技術開発と製品開発の二つの分野に区分されます。製品開発は、さらに、新製品開発と既存製品の改良開発に区分されます。
基盤技術開発は、主として新領域事業において行っております。新製品開発は、主として新領域事業において、既存製品の改良開発は、新領域、半導体、ヘルスケアの各事業において行っております。独自開発のみならず、ユーザーや大学等との共同研究開発も積極的に進めております。
当連結会計年度における当社グループが支出した研究開発費の総額は
当連結会計年度における各区分の主要な研究開発の概要は以下のとおりです。
なお、当社グループは、光学事業の単一セグメントでありますので、セグメント別の記載を省略しております。
(1)基盤技術開発
当社グループは、当社グループの保有するコアテクノロジ技術の深耕として、新たな特性を持つ単結晶材料の探索や、新たな単結晶育成技術の開発、レーザ光源の高出力化や短波長化の技術開発に取り組んでおります。
(2)製品開発
当社グループは、(1)の基盤技術開発を利用して、新製品開発、既存製品の改良開発に取り組んでおります。
① 新製品開発
光学技術の応用分野は拡大を続けております。当連結会計年度は、単結晶においては、成長著しいパワー半導体分野(SiC単結晶、β型酸化ガリウム単結晶)に注力しております。レーザにおいては、次世代の半導体検査装置用213nm、244nm、257nmレーザや最先端の材料分析技術である光電子分光用114nmレーザの開発・製品化に注力しております。量子関連技術については、量子もつれ光子対光源モジュールなどの量子通信を実現するモジュールを開発しております。
② 既存製品の改良開発
当社グループの主力製品である波長266nmレーザについて、高出力化・高信頼化を進めると共に、需要増に対応するための量産技術開発やサプライチェーン強靭化に向けた主要部品の内製化を推進しております。
製品開発の例
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開発中の製品 |
期待される主な用途 |
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単結晶・ デバイス |
GPS単結晶 |
放射能汚染モニタリング、セキュリティ、石油探査、医用SPECT装置 |
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アイソレータ用単結晶 |
5G・データセンタ通信用デバイス |
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GaN用基板単結晶 |
可視光レーザ、高周波デバイス、パワー半導体 |
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SiC単結晶 |
パワー半導体 |
|
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β型酸化ガリウム単結晶 |
パワー半導体 |
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蛍光体単結晶・デバイス |
レーザ照明、水銀ランプ代替、プロジェクタ光源 |
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量子通信デバイス |
長距離量子通信、量子もつれ光子対光源、量子中継器 |
|
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レーザ |
CW/QCW213nmレーザ |
半導体検査装置、最先端計測 |
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114nmレーザ |
光電子分光 |
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フェムト秒レーザ |
電子部品等のマイクロ加工、ディスプレイのリペア |
|
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マスク描画用レーザ |
フォトマスク、露光機 |
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257.5nm深紫外レーザ |
半導体リソグラフィパターンの高速検査 |
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